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首 頁 > 新聞動態(tài) > 行業(yè)資訊 > DRAM與NAND之后,這四種存儲技術(shù)或成為下世代業(yè)界的寵兒 DRAM與NAND之后,這四種存儲技術(shù)或成為下世代業(yè)界的寵兒隨著移動設(shè)備、物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用的興起,對于節(jié)能的資料儲存與存儲器技術(shù)需求日益增加。目前的存儲器技術(shù)以DRAM與NAND快閃存儲器為主流,但DRAM的讀寫速度快無法長時間儲存資料;NAND Flash能保存資料,但讀寫速度不佳。 同時兼具運算、儲存能力的下世代存儲器,如磁阻式存儲器(MRAM)、電阻式存儲器(RRAM)、3D XPoint技術(shù)與高潛力的自旋電子磁性存儲器(STT-MRAM)等,就成為下世代存儲器技術(shù)的新寵兒。 MRAM的技術(shù)在學理上存取速度將超越DRAM達到接近SRAM,且斷電后資料不流失,早期由Everspin公司開發(fā),被視為下世代存儲器技術(shù)的重要的競爭者。2017年是MRAM技術(shù)爆發(fā)的一年,當年在日本舉辦的大型集成電路技術(shù)、系統(tǒng)和應(yīng)用國際研討會,格羅方德與 Everspin公司共同發(fā)布有抗熱消磁eMRAN技術(shù),具能夠讓資料在攝氏150度下保存資料,可長達十數(shù)年的22納米制程的制程技術(shù),預(yù)計2017年底、2018年投產(chǎn)。 而曾經(jīng)投入存儲器研發(fā)生產(chǎn),但卻不敵成本高昂而退出存儲器市場的臺積電,在2017年臺積電技術(shù)論壇中,揭露已具備22納米制程嵌入式磁阻式存儲器(eMRAM)的生產(chǎn)技術(shù),預(yù)定2018年試產(chǎn)。 RRAM其優(yōu)點是消耗電力較NAND低,且寫入資訊速度比NAND快閃存儲器快1萬倍,主要投入研究的廠商有美光、Sony、三星。 臺積電也已宣布具備生產(chǎn)22納米eRRAM技術(shù)。3D XPoint技術(shù)的主要廠商為英特爾與美光,采用多層線路構(gòu)成的三維結(jié)構(gòu),并采用柵狀電線電阻來表示0和1,原理類似RRAM。 為儲存裝置的良好的替代品,具有比NAND快閃存儲器快了近1,000倍,也可用于運算速度要求低的計算應(yīng)用。 STT-MRAM是運用量子力學的電子自旋角動量的技術(shù)應(yīng)用,具有DRAM和SRAM的高性能且低功耗,并相容現(xiàn)有的CMOS制造技術(shù)與制程。 目前主要投入廠商有IBM與三星、SK海力士和東芝,其中IBM和三星在IEEE發(fā)布研究論文表示,已成功實現(xiàn)10奈秒的傳輸速度和超省電架構(gòu)。 盡管下世代存儲器未來有望取代部分DRAM與NAND快閃存儲器的市場,甚至取代舊有技術(shù)。但是筆者認為,隨著人工智能、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備與更多的資料收集與傳感需求,下世代的存儲器技術(shù)首先將著眼于以新應(yīng)用的需求為主,如臺積電鎖定的嵌入式存儲器,并充分發(fā)揮運算與儲存二合一的優(yōu)勢,進一步微縮大小,達到元件更高的市場滲透率。 但是若從廠商動態(tài)來看,22納米的eMRAM技術(shù)將于2018年年后逐漸成熟,并開始有大量的市場應(yīng)用。 注:本文作者為臺灣地區(qū)實驗研究院科技政策研究與資訊中心研究員王宣智
來源:臺灣經(jīng)濟日報 |